МИКРОВОЛНОВЫЙ РАЗРЯД, ПОДДЕРЖИВАЕМЫЙ ИЗЛУЧЕНИЕМ ГИРОТРОНА НА ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОЙ ПОДЛОЖКЕ С СЕРЕБРЯНЫМИ ЧАСТИЦАМИ В ВОЗДУХЕ, ДЛЯ СОЗДАНИЯ МЕТАЛЛИЗИРОВАННОГО ПОКРЫТИЯ НА ABS-ПЛАСТИКЕ

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Доступ платный или только для подписчиков

Аннотация

Представлены результаты экспериментов по использованию плазмы микроволнового разряда, поддерживаемого микроволновым излучением импульсного (6 мс) гиротрона, для переноса вещества из металлического нанопорошка серебра на поверхность диэлектрической из ABS (акрилонитрил-бутадиен-стирол) пластиковой мишени. Эксперименты проводились при атмосферном и пониженном давлении (до 50 Торр) воздуха при плотности мощности микроволнового излучения от 1.25 до 12 кВт/см2. Были изучены пространственные структуры плазмы микроволнового разрядов, распространяющихся вблизи кварцевой подложки со слоем нанопорошка серебра. Было определено, что разряд может иметь не менее 3 типов пространственной структуры: а) локализированный микроволновый разряд в точках инициирования разряда; б) микроволновый разряд, распространяющийся через кварцевую подложку; в) микроволновый разряд, распространяющийся вдоль кварцевой подложки. Нанесенный на поверхность пластика слой металла был охарактеризован с помощью электронной микроскопии.

Об авторах

З. А Заклецкий

Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН

Email: freetggen@gmail.com
Москва, Россия

Д. В Малахов

Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН

Москва, Россия

С. Е Андреев

Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН

Москва, Россия

Список литературы

  1. Litvak A.G., Denisov G.G., and Glyavin M.Y. // IEEE J. Microwaves. 2021. V. 1. P. 260. https://doi.org/10.1109/JMW.2020.3030917
  2. Thumm M.K.A., Denisov G.G., Sakamoto K., and Tran M.Q. // Nuclear Fusion. 2019. V. 59. P. 073001. https://doi.org/10.1088/1741-4326/ab2005
  3. Batanov G.M., Kolik L.V., Konchekov E.M., Malakhov D.V., Novozhilova Yu.V., Petelin M.I., Petrov A.E., Pshenichnikov A.A., Sarksyan K.A., Skvortsova N.N., and Kharchev N.K. // Plasma Phys. Rep. 2011. V. 37. P. 381. https://doi.org/10.1134/S1063780X11040015
  4. Krapivnitckaia T., Ananicheva S., Alyeva A., Denisenko A., Glyavin M., Peskov N., Sobolev D., and Zelentsov S. // Processes. 2023. V. 11. P. 1924. https://doi.org/10.3390/pr11071924
  5. Bykov Yu.V., Egorov S.V., Eremeev A.G., Plotnikov I.V., Rybakov K.I., Sorokin A.A., and Kholoptsev V.V. // Tech. Phys. 2008. V. 63. P. 391.
  6. Vikharev A.L., Gorbachev A.M., and Radishev D.B. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2018. V. 52. P. 014001. https://doi.org/10.1088/1361-6463/aae3a3
  7. Mansfeld D., Sintsov S., Chekmarev N., and Vodopyanov A. // J. CO2 Utilization. 2020. V. 40. P. 101197. https://doi.org/10.1016/j.jcou.2020.101197
  8. Tabata K., Harada Y., Nakamura Y., Komurasaki K., Koizumi K., Kariya T., and Minami R. // J. Appl. Phys. 2020. V. 127. P. 063301. https://doi.org/10.1063/1.5144157
  9. Sidorov A.V., Veselov A.P., Razin S.V., Barmashova T.V., Vodopyanov A.V., Luchinin A.G., Orlovskiy A.A., and Glyavin M.Yu. // J. Phys.: Conf. Ser. 2021. V. 2103. P. 012211. https://doi.org/10.1088/1742-6596/2103/1/012211
  10. Takahashi K., and Komurasaki K. // Adv. Phys.: X. 2018. V. 3. P. 1417744. https://doi.org/10.1080/23746149.2017.1417744
  11. Artem’ev K.V., Batanov G.M., Berezhetskaya N.K., Borzosekov V.D., Gritsinin S.I., Davydov A.M., Kolik L.V., Konchekov E.M., Kossyi I.A., Lebedev Yu.A. et al. // Plasma Phys. Rep. 2020. V. 46. P. 311. https://doi.org/10.1134/S1063780X20030010
  12. Batanov G.M., Berezhetskaya N.K., Kossy I.A., and Magunov A.N. // Plasma Phys. Rep. 2006. V. 32. P. 525. https://doi.org/10.1134/S1063780X06060109
  13. Zakletskii Z.A., and Malakhov D.V. // Plasma Phys. Rep. 2023. V. 49. P. 1228. https://doi.org/10.1134/S1063780X23601001
  14. Gautam K., Gogoi D., Kongnyui T.D., Devi S., Kumar Ch., and Kumar M. // Polymers Adv. Technol. 2024. V. 35. P. 4. https://doi.org/10.1002/pat.6369
  15. Juarez T., Schroer A., Schwaiger R., and Hodge A.M. // Materials Design. 2018. V. 140. P. 442. https://doi.org/10.1016/j.matdes.2017.12.005
  16. Zhang H., Kang Z., Sang J., and Hirahara H. // Surface Coatings Technol. 2018. V. 340. P. 8. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.02.005
  17. Li R., Gao Y., Wang J., Xu H., Zhang Z., Wang M., and Wang H. // Appl. Surface Sci. 2025. V. 690. P. 162611. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.162611
  18. Taylor W.C., Scharfman W.E., and Morita T. Advances in Microwaves. New York: Academic, 1971.
  19. Tabata K., Harada Y., Nakamura Y., Komurasaki K., Koizumi H., Kariya T., and Minami R. // J. Appl. Phys. 2020. V. 127. P. 063301. https://doi.org/10.1063/1.5144157
  20. Suzuki S., Hamasaki K., Takahashi M., Kato C., and Ohnish N. // Phys. Plasmas 2022. V. 29. P. 093507. https://doi.org/10.1063/5.0096363
  21. Artem’ev K.V., Batanov G.M., Berezhetskaya N.K., Borzosekov V.D., Davydov A.M., Kolik L.V., Konchekov E.M., Kossyi I.A., Malakhov D.V., Moryakov I.V. et al. // Plasma Phys. Rep. 2022. V. 48. P. 170. https://doi.org/10.1134/S1063780X22020027
  22. Kuzmanic I., Vujovic I., Petkovic M., and Soda J. // Prog. Additive Manuf. 2023. V. 8. P. 703. https://doi.org/10.1007/s40964-023-00411-0
  23. Zhai M., Locquet A., and Citrin D. // Internat. J. Wireless Information Networks. 2022. V. 29(3). P. 269. https://doi.org/10.1007/s10776-022-00554-x

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML
Скачать

© Российская академия наук, 2025